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  • 硅铝靶

硅铝靶

  • 用于光学镀膜,真空镀膜,溅射靶材,磁性薄膜,电子材料,合金材料等
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产品名称

硅铝靶

纯度

99.999%

规格

Φ254×12mm或根据要求定制

密度

2.7g/cm3

熔点

660℃



应用: 

用于制作SiO2膜, Si3N4膜

光学玻璃

LOW-E镀膜玻璃

半导体电子元件

平面显示, 触摸屏玻璃



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